Shaanxi BLOOM Tech co, Ltd se youn nan manifaktirè yo ak founisè ki pi eksperyans nan hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 nan Lachin. Byenveni nan an gwo en meyè kalite hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 pou vann isit la nan faktori nou. Bon sèvis ak pri rezonab ki disponib.
Egzamethyldisilazane (HMDS), san koulè likid transparan. Li fasil pou idrolize, lage NH3, ak jenere hexamethyldisilane. Nan prezans katalis, li reyaji ak alkòl oswa fenol pou pwodwi trimethylalkoxysilane oswa trimethylaryloxysilane. Li reyaji ak klori idwojèn anidrid pou lage NH3 oswa NH4Cl pou pwodui trimethylchlorosilane. Li ka prepare pa reyaji trimethylchlorosilane ak NH3. Li ka itilize kòm yon ajan tretman idrofob pou sifas silica fumed ak yon reyaktif pou bay atòm N nan reyaksyon sentèz òganik, kòm yon ajan oksilyè pou fib carbure Silisyòm, amelyore rezistans chalè ak fòs fib carbure Silisyòm, ak kòm yon ajan anti presipitasyon pou kouch. Li se tou itilize yo prepare konpoze organosilicon.
|
|
|
|
Fòmil chimik |
C6H19NSi2 |
|
Mass egzak |
161.11 |
|
Pwa molekilè |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Analiz elemantè |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8,68; Si, 34,80 |
Egzamethyldisilazane (HMDS)(nimewo CAS: 999-97-3), kòm yon konpoze Silisyòm òganik multifonksyonèl, te demontre valè iranplasabl nan divès domèn tankou medikaman, semi-conducteurs, sentèz òganik, ak modifikasyon materyèl akòz estrikti inik kosyon nitwojèn Silisyòm li yo (Si-N) ak gwo reyaksyon.
Aplikasyon HMDS nan domèn pharmaceutique konte pou 64%, epi li se reyaktif debaz pou sentèz antibyotik, dwòg anti-timè, dwòg antiviral, ak transpòtè dwòg vize. Valè debaz li yo reflete nan fonksyon doub pwoteksyon gwoup ak aktivasyon reyaksyon:
sentèz antibyotik
- antibyotik laktam (tankou penisilin ak sefalosporin): HMDS pwoteje gwoup idroksil oswa amino atravè silanizasyon, anpeche entèmedyè kle yo dekonpoze anba kondisyon asid oswa tanperati ki wo-. Pou egzanp, nan sentèz antibyotik sefalosporin, HMDS pwoteje gwoup idroksil asid 7-aminocephalosporanic (7-ACA), ogmante pwodiksyon reyaksyon an soti nan 65% a 89% pandan y ap diminye jenerasyon an nan sous-pwodwi yo.
Antibyotik aminoglikozid (tankou amikacin ak kanamycin): HMDS pwoteje gwoup amine pou asire estabilite chemen reyaksyon an. Nan sentèz amikacin, entwodiksyon HMDS ogmante pite a nan entèmedyè a soti nan 92% a 98%, siyifikativman amelyore efikasite nan pwodiksyon gwo -echèl.
dwòg antineoplastic
Fluorouracil (5-FU): HMDS pwoteje gwoup idroksil yo nan entèmedyè dwòg atravè silanizasyon, diminye reyaksyon oksidatif segondè. Done eksperimantal yo montre ke apre yo fin itilize HMDS, etap sentèz fluorouracil yo te senplifye soti nan 7 etap a 4 etap, sede a ogmante soti nan 58% a 76%, ak pite a te rive nan 99.5%.
Sib transpòtè dwòg: HMDS pite segondè yo itilize pou modifye sifas lipozom oswa nanopartikil polymère, amelyore biocompatibility ak vize. Pou egzanp, akimilasyon nan transpòtè modifye dwòg anti-kansè nan tisi timè yo ogmante twa fwa, epi toksisite sistemik redwi pa 40%.
dwòg antiviral
Azvudine: HMDS diminye risk pou jenerasyon enpurte nan sentèz nouvo entèmedyè dwòg antiviral atravè reyaksyon pwoteksyon milti-. Etid preklinik yo montre ke entwodiksyon HMDS diminye kontni enpurte nan entèmedyè soti nan 2.1% a 0.3%, sipòte pwodiksyon gwo -echèl ak yon kapasite anyèl ki gen plis pase 50 tòn.
Endistri Semiconductor: "ekspè nan lyezon" nan teknoloji fotolitografi
Nan jaden an semi-conducteurs,Egzamethyldisilazane (HMDS), kòm yon ajan lyezon pou etchants foto, amelyore presizyon fabrikasyon chip atravè teknoloji modifikasyon sifas, kontablite pou 20% nan aplikasyon yo. Mekanis debaz aksyon li yo se:
Tretman idrofobisite sifas yo
HMDS flite sou sifas Silisyòm wafers nan faz likid oswa gaz, ak kosyon nitwojèn Silisyòm kondanse ak gwoup idroksil Silisyòm (- Si OH) pou fòme yon kouch nitrure Silisyòm idrofob (ang kontak ogmante soti nan 20 degre a 120 degre), ki ogmante adezyon ki genyen ant fotorezistans la ak solisyon an silikòn pa twa fwa, diminye solisyon an nan silikon. 80%, ak siyifikativman amelyore rezistans korozyon an.
Aplikasyon pou pwodwi elektwonik klas
Elektwonik klas HMDS (pite pi gran pase oswa egal a 99.999%) te lajman itilize nan jaden tankou ekspozisyon panèl plat ak manifakti chip. Pou egzanp, nan pwosesis wafer 12 pous, pwosesis HMDS diminye to a nidite photoresist soti nan 15% a 3%, kontwole inifòmite nan lajè liy nan ± 2nm, ak sipòte pwosesis nan 5nm ak anba a.
Materyèl Organosilicon: modifikatè kle pou amelyorasyon pèfòmans
HMDS konte pou 3% nan aplikasyon an nan jaden an nan organosilicon, epi li se aditif debaz la pou optimize pwopriyete yo nan materyèl tankou kawotchou silikon, lwil oliv silikon, ak résine silikon.
Ranfòsman kawotchou silikon
HMDS, kòm yon ajan sele, reyaji ak gwoup idroksil yo nan fen chèn molekilè kawotchou silikone atravè lyezon nitwojèn Silisyòm pou fòme yon estrikti ki estab kwa -. Eksperyans yo te montre ke ajoute 2% HMDS nan kawotchou silikon ogmante fòs chire li yo pa 40%, elaji ranje rezistans tanperati li yo soti nan -50 degre a 200 degre a -80 degre a 250 degre, epi redwi konpresyon li yo pa 50%.
Tretman idrofob nan lwil silikone
HMDS reyaji ak gwoup silanol yo sou sifas gaz-faz nwa kabòn blan pou fòme yon kouch silazan idrofob, ogmante ang kontak lwil silikone soti nan 30 degre a 150 degre ak diminye tan defoaming pa 60%. Li se lajman ki itilize nan penti, pwodui kosmetik ak lòt jaden.
Aditif lubrifyan tanperati ki wo
HMDS konbine avèk molekil lwil oliv lubrifyan pou fòme yon fim pwoteksyon, diminye volatilité a 30%, pwolonje peryòd endiksyon oksidasyon an pa 2 fwa, epi ogmante estabilite tèmik a 300 degre. Li apwopriye pou anviwònman tanperati ki wo -tankou motè avyon.
Tretman sifas materyèl: yon "kle mèt" pou modifikasyon fonksyonèl
HMDS reyalize optimize pèfòmans nan kondansasyon gwoup idroksil sou sifas materyèl inòganik atravè lyezon nitwojèn Silisyòm, ak yon pwopòsyon aplikasyon 8%
Pwosesis materyèl poud
Blan kabòn nwa: Apre tretman HMDS, sifas espesifik la diminye soti nan 200m ²/g rive 180m ²/g, fenomèn nan aglomerasyon te redwi pa 70%, ak dispersibility nan kawotchou te siyifikativman amelyore.
Titàn poud: Tretman idrofobisite sifas diminye pousantaj rezoud nan poud Titàn nan solvang òganik pa 90%, fè li apwopriye pou preparasyon poud metal enprime 3D.
Modifikasyon twal fib
Tretman HMDS nan fib carbure Silisyòm fòme yon kouch pwoteksyon nitrure Silisyòm, ogmante rezistans chalè fib la soti nan 1200 degre a 1500 degre ak pousantaj retansyon fòs soti nan 65% a 85%. Li se lajman ki itilize nan materyèl ayewospasyal konpoze.
Egzamethyldisilazane (HMDS)kont pou 5% nan jaden an nan sentèz òganik, ak aplikasyon debaz li yo enkli:
Sentèz monomè klorosilan
HMDS sibi reyaksyon echanj klò ak chlorosilanes (tankou octamethylcyclotetrasiloxane) pou jenere polysilazane, ak yon sede 20% pi wo ak konsomasyon enèji redwi pa 30% konpare ak metòd dirèk amonyak. Li se yon metòd enpòtan pou prepare précurseurs seramik.
Kwomatografi gaz ke redukteur
Kòm yon likid fiks, HMDS diminye aktivite adsorption sifas konpayi asirans lan, ogmante simetri pik pa 40%, epi redwi limit deteksyon an a 0.1 ppm. Li se lajman ki itilize nan siveyans anviwònman an, analiz dwòg, ak lòt jaden.
Preparasyon echantiyon mikwoskòp elèktron
HMDS, kòm yon desiccant pwen kritik, ranplase tradisyonèl etanòl dezidratasyon, diminye echantiyon kontraksyon pa 80%, prezève ultrastructure selil, epi li lajman ki itilize nan rechèch byomedikal.
Gen senk prensipal pwosesis sentetik pou pwodui sa a:
1. Trimethylsilane reyaji ak amonyak anba kataliz Pt oswa Pd. Tanperati reyaksyon an wo epi ekipman an sevè. Sede a se jiska 95.8%.
2. Trimethylchlorosilane prepare soti nan trimethylchlorosilane pa reyaji ak amonyak nan sòlvan inaktif ak rektifye.
3. Avèk hexamethyldisiloxane kòm matyè premyè, li reyaji ak asid silfirik konsantre pou jenere silfat Silisyòm, ak silfat Silisyòm reyaji ak klori idwojèn pou jenere trimethylchlorosilane, ak Lè sa a, pase amonyak pou prepare HMDS.
4. Hexamethyldisiloxane reyaji ak pentoksid fosfò oswa asid fosfò pou prepare Silisyòm fosfat, ak Lè sa a, antre amonyak pou prepare HMDS.
5. HMDS prepare pa reyaksyon hexamethyldisiloxane ak asid silfirik konsantre pou pwodwi silfat Silisyòm dirèkteman atravè gaz amonyak.
Kounye a, dezyèm metòd la se sitou itilize pou pwodiksyon endistriyèl nan HMDS nan Lachin. Metòd sa a pran trimethylchlorosilane kòm matyè premyè, reyaji ak amonyak nan sòlvan inaktif, epi li prepare pa distilasyon.
Metòd 1:
Ajoute 630ml trimethylchlorosilane, 250ml hexamethyldisiloxane, 500ml benzèn ak 500ml xylene nan raktor a ak ajitatè, tèmomèt ak kalib presyon, epi brase respire. Gaz amonyak la prezante pou reyaksyon amonyak, epi yo obsève ak anpil atansyon chanjman eta materyèl nan flakon pandan pwosesis entwodiksyon gaz amonyak la. Fè egzateman kontwole to koule gaz amonyak la, ak to reyaksyon an pa ta dwe twò vit pou anpeche patikil sèl yo vlope trimethylchlorosilane. Kontwole tanperati reyaksyon mwens pase oswa egal a 80 degre ak presyon reyaksyon mwens pase oswa egal a 0.2Mpa. Apre reyaksyon amonyaj la, fre materyèl la a 35 degre epi ajoute 800ml dlo pou premye lave dlo a. Apre lave, kanpe pou 5 minit epi retire solisyon an akeuz NH4Cl nan kouch ki pi ba a an faz. Ajoute 400ml solisyon idroksid potasyòm 30% pou lave faz òganik la. Apre lave, kite l kanpe pou 5 minit, epi separe faz akeuz ki pi ba a. Faz òganik la lave ak 800ml dlo pou yon dezyèm fwa. Apre separasyon faz, materyèl anwo a se brut HMDS. Pandan pwosesis lave a, dlo lave pou premye lave a dwe dlo lave pou dezyèm lave apre lave alkali. Se pwodwi brit la voye nan gwo kay won an distilasyon separe sòlvan reyaksyon an ak pwodwi, epi finalmanèksamethyldisilazaneak kontni pi gwo pase oswa egal a 99% se jwenn ak sede nan 89.99%.
Metòd 2:
Yon metòd pou prepare hexamethyldisiloxane soti nan hexamethyldisiloxane gen ladan etap sa yo:
1) Mete 1000kg hexamethyldisiloxane nan yon veso reyaksyon ak yon kapasite de 1500L, manje gaz klori idwojèn sèk nan veso reyaksyon an pou reyaksyon, epi jenere trimethylchlorosilane ak dlo; Presyon an nan veso reyaksyon an kontwole nan apeprè 0.2MPa, tanperati a se 30 degre, ak vitès la vibran nan veso reyaksyon an se 65r / min. Pandan reyaksyon an, dlo ki pwodui a soti anba veso reyaksyon an.
Lè mas la nan trimethylchlorosilane nan solisyon an melanje nan hexamethyldisiloxane ak trimethylchlorosilane nan veso reyaksyon an pi wo a kont pou 30% nan mas la nan solisyon an melanje, sispann pase gaz klori idwojèn, ak reyaksyon an fini.
2) Transfere melanj hexamethyldisiloxane ak trimethylchlorosilane jwenn pi wo a nan yon lòt raktor ki gen yon kapasite 3000L epi brase li. Ranpli raktè a ak amonyak sèk pou jenere hexamethyldisiloxane ak klori amonyòm. Presyon an nan raktor a se sou 0.25MPa, tanperati a se 35 degre, ak tan an reyaksyon se 5h.
3) Se klori amonyòm nan pwodwi reyaksyon an nan etap 2) separe nan epesè separasyon klori amonyòm, epi li rektifye rezidi a pou retire hexamethyldisiloxane pou finalman jwenn.Egzametildisilazan (HMDS).
Baj popilè: hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3, Swèd, manifaktirè, faktori, wholesale, achte, pri, esansyèl, pou vann